Realizzazione e caratterizzazione di ottiche a multistrato per la radiazione nell'estremo ultravioletto e raggi X soffici

Introduzione. I Introduzione In questo lavoro di tesi Ł stata messa a punto una tecnica di deposizione basata sul magnetron sputtering, che consente la realizzazione di specchi piani a multistrato del sistema Si/Mo ottimizzati per il funzionamento con radiazione di lunghezza d onda tra 12 e 19 nm ad incidenza normale. Il lavoro Ł stato volto alla ottimizzazione dei parametri di crescita quali la potenza di sputtering, la temperatura del substrato, la pressione del gas, la distanza tra i target e il substrato e il tempo di deposizione del singolo strato. Sono state utilizzate piø configurazioni geometriche di deposizione ed Ł stata infine introdotta una certa automazione del processo, per aumentarne la produttivit e la ripetibilit . Le ottiche prodotte, cos come molti campioni preliminari, sono state caratterizzate con tecniche nucleari (RBS ed ERD) per la composizione e lo studio dei profili di omogeneit di deposizione, con le tecniche di diffrazione di raggi X ad angolo radente (XRR e XRD) per studiare la periodicit , gli effetti della rugosit , e la microstruttura degli strati; con la microscopia elettronica a trasmissione (TEM) ed infine con misure di riflettivit ad incidenza normale a lunghezze d onda pari a quelle previste per il funzionamento. La tesi Ł cos strutturata: nel capitolo 1 vengono descritti brevemente i principi di funzionamento degli specchi a multistrato per radiazione nella regione dell estremo ultravioletto; nel capitolo 2 viene presentato lo stato dell arte della produzione e delle propriet di specchi nell intervallo di lunghezze d onda tra 2.3 nm e 30 nm. Sono passate in rassegna alcune tipologie di specchi tra i piø utilizzati.