Deposizione via plasma di film sottili con proprietà acido-base variabili

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Elena Dilonardo

• Autore della tesi: Deposizione via plasma di film sottili con proprietà acido-base variabili ≫

Studi

• Laurea in Chimica
  conseguita presso Università degli Studi di Bari nell'anno 2005-06
  con una votazione di 110 e lode
  sostendendo i seguenti esami:

  Materia		Voto
  Chimica Generale ed inorganica e Laboratorio di Chimica generale ed iorganica		30 e lode
  Istituzioni di matematica I		27
  Fisica I		30
  Istituzioni di matematica II		30
  Labpratorio di chimica analitica I e II		28
  Fisica II		27
  Programmazione e calcolo		30
  Idoneità di Inglese		28
  Chimica Fisica I e Lab. di Chimica Fisica I		28
  Coplementi di elettrochimica ed elettroanalitica		27
  Chimica Inorganica e Lab. di chimica Inorganica		30
  Chimica Organica I e Lab. di chimica organica I		23
  Chimica anlitica I e Lab. di chimica analitica III		30
  Complementi di chimica organica ed inorganica		26
  Chimica Organica II e Lab. di Chimica organica II		27
  Chimica Fisica II e Lab. di chimica fisica II		30
  Chimica Fisica IV e Lab. di Chimica Fisica IV		30
  Chimica Fisica V e Lab. di Chimica Fisica V		30 e lode
  Spettroscopia Molecolare		30
  Chimica delle radiazioni		30
  Chimica biologica		30
  Chimica dello stao solido		30
  Chimica dei materiali		30
  Chimica dell'inquinamento		30
  Chimica dei complessi di coordinazione		30
  Sintesi e tecniche speciali inorganiche		30

• Laurea in Chimica
  conseguita presso Università degli Studi di Bari nell'anno 2006
  con una votazione di 110 e lode
• Diploma di maturità conseguito presso il Liceo scientifico
  con votazione 100/100°

Esperienze lavorative

• Dal 2007 lavora presso Università degli studi di Bari nel settore Chimica - Petrolchimica - Gomma e Materie Plastiche
  Mansione: Dottoranda di ricerca

Lingue straniere

• Inglese parlato e scritto: ottimo
• Francese parlato e scritto: discreto

Conoscenze informatiche

• Livello ottimo